表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用

【名词&注释】

扩散系数(diffusion coefficient)、高纯水(high purity water)、绝缘体(insulator)、有机溶剂(organic solvent)、电子元件(electronic component)、钠离子(sodium ion)、场氧化层(field oxide)、高纯化学试剂

[单选题]表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。

A. 分凝度
B. 固溶度
C. 分凝系数
D. 扩散系数

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学习资料：

[单选题]奉献社会的实质是（）。

A. 获得社会的好评
B. 尽社会义务
C. 不要回报的付出
D. 为人民服务

[多选题]解决氧化层中的钠离子^{(sodium ion)}沾污的方法有（）。

A. 加强工艺操作
B. 加强人体和环境卫生
C. 使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
D. 采用HCl氧化工艺
E. 硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹

[单选题]在IC芯片生长中浅沟槽隔离技术STI逐渐取代了局部氧化LOCOS所制成的（）而成为相邻电子元件的绝缘体

A. 栅氧化层
B. 沟槽
C. 势垒
D. 场氧化层^{(field oxide)}

[多选题]清洁处理主要使用的是（）。

A. 水
B. 有机溶剂
C. 碱
D. 酸
E. 盐酸

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