正确答案: C

分凝系数

题目：表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。

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学习资料的答案和解析：

[单选题]奉献社会的实质是（）。

不要回报的付出

[多选题]解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

加强工艺操作

加强人体和环境卫生

使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备

采用HCl氧化工艺

硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹

[单选题]在IC芯片生长中浅沟槽隔离技术STI逐渐取代了局部氧化LOCOS所制成的（）而成为相邻电子元件的绝缘体

场氧化层

[多选题]清洁处理主要使用的是（）。

水

有机溶剂

碱

酸

盐酸