正确答案: ABCDE
            磷钙玻璃 三氯氧磷 三氯化磷 磷烷 掺磷二氧化硅乳胶源 
            题目:下列可作为磷扩散源的是()。
           
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                 [多选题]光刻胶的光学稳定通过()来完成的。
                                                
                  
                                                                                                                                                                 加热 
                                                                                                 紫外光辐射 
                                                                                        
                
                
                            
                
                 [单选题]当注入剂量增加到某个值时,损伤量不再增加,趋于饱和。开始饱和的注入剂量称为()。
                                                
                  
                                                                         临界剂量 
                                                                                                                                                                                
                
                
                            
                
                 [多选题]通常情况下,我们改变工艺条件使刻蚀进行中()的刻蚀速率尽量低。
                                                
                  
                                                                         光刻胶 
                                                                                                 衬底 
                                                                                                                                                                                
                
                
                            
                
                 [单选题]一般来说,我们用一定量的()使阳树脂再生。
                                                
                  
                                                                                                                                                                 盐酸 
                                                                                        
                
                
                            
                
                 [多选题]静电释放带来的问题有哪些()。
                                                
                  
                                                                                                                                                                 芯片产生超过1A的峰值电流 
                                                                                                 栅氧化层击穿 
                                                                                                 吸引带电颗粒或极化并吸引中性颗粒到硅片表面