干氧氧化中，氧化炉内的气体压力应（）一个大气压。

【名词&注释】

半导体(semiconductor)、适用范围(scope of application)、有机溶剂(organic solvent)、大气压(atmospheric pressure)、自扩散(self-diffusion)、干氧氧化(dry oxidation)、杂质扩散(impurity diffusion)

[单选题]干氧氧化^{(dry oxidation)}中，氧化炉内的气体压力应（）一个大气压。

A. 稍高于
B. 大大于
C. 等于
D. 没有要求

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学习资料：

[单选题]在空位扩散中，如果迁移到空位的原子是基质原子，扩散属于（）。

A. 推挤扩散
B. 杂质扩散^{(impurity diffusion)}
C. 填隙扩散
D. 自扩散

[单选题]半导体硅常用的施主杂质是（）。

A. 锡
B. 硫
C. 硼
D. 磷

[多选题]清洁处理主要使用的是（）。

A. 水
B. 有机溶剂
C. 碱
D. 酸
E. 盐酸

[单选题]ESD产生（）种不同的静电总类。

A. 1
B. 4
C. 3
D. 2

[单选题]电气测量仪表中，整流式对电流的种类与频率的适用范围是（）。

A. 直流
B. 工频及较高频率的交流
C. 直流及工频交流
D. 直流及工频与较高频率的交流

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