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有关光刻胶的显影下列说法错误的是()。

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    热扩散(thermal diffusion)、光刻胶、离子注入(ion implantation)、原子序数(atomic number)、射程分布(range distribution)、显影液(developer)

  • [多选题]有关光刻胶的显影下列说法错误的是()。

  • A. 负胶受显影液(developer)的影响比较小
    B. 正胶受显影液(developer)的影响比较小
    C. 正胶的曝光区将会膨胀变形
    D. 使用负胶可以得到更高的分辨率
    E. 负胶的曝光区将会膨胀变形

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  • 学习资料:
  • [单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,磷的扩散温度为()。
  • A. 600~750℃
    B. 900~1050℃
    C. 1100~1250℃
    D. 950~1100℃

  • [多选题]对于非晶靶,离子注入的射程分布(range distribution)取决于()。
  • A. 入射离子的能量
    B. 入射离子的质量
    C. 入射离子的原子序数
    D. 靶原子的质量、原子序数、原子密度
    E. 注入离子的总剂量

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