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正确答案:
ACD
负胶受显影液的影响比较小 正胶的曝光区将会膨胀变形 使用负胶可以得到更高的分辨率
题目:有关光刻胶的显影下列说法错误的是()。
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学习资料的答案和解析:
[单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,磷的扩散温度为()。
900~1050℃
[多选题]对于非晶靶,离子注入的射程分布取决于()。
入射离子的能量
入射离子的质量
入射离子的原子序数
靶原子的质量、原子序数、原子密度
注入离子的总剂量
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下列可作为磷扩散源的是()。
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采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
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早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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