离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的（）和引出部分组成。

【名词&注释】

光刻胶、光辐射、离子源(ion source)、十进制(decimal system)、洛仑兹力(lorentz force)、高密度等离子体(high density plasma)

[单选题]离子源的基本结构是由产生高密度等离子体^{(high density plasma)}的（）和引出部分组成。

A. 电极
B. 分析器
C. 加速器
D. 腔体

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学习资料：

[多选题]光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。

A. 红外线辐射
B. X射线照射
C. 加热
D. 紫外光辐射
E. 电子束扫描

[多选题]半导体芯片生产中，离子注入主要是用来（）。

A. 氧化
B. 改变导电类型
C. 涂层
D. 改变材料性质
E. 镀膜

[多选题]电荷积分仪的基本单元包括（）。

A. I-V转换
B. V-f转换
C. 十进制计数电路
D. 控制电路
E. 红外探测器

[单选题]离子束垂直进入均匀的正交磁场后，将同时受到电场力和（）的作用。

A. 洛仑兹力^{(lorentz force)}
B. 反向的电场力
C. 库仑力
D. 重力

[单选题]为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。

A. 磁分析器
B. 正交电磁场分析器
C. 静电偏转电极
D. 束流分析仪

[多选题]薄膜沉积的机构包括那些步骤（）。

A. 形成晶核
B. 晶粒成长
C. 晶粒凝结
D. 缝道填补
E. 沉积膜成长

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