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()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进

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  • 【名词&注释】

    单晶硅(single crystal silicon)、离子注入(ion implantation)、控制电路(control circuit)、多晶硅(polysilicon)、氮化硅(silicon nitride)、十进制(decimal system)、有利于(beneficial to)、饱和蒸汽压(saturated vapor pressure)、氧化铬(chromium oxide)、之所以(the reason that)

  • [单选题]()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压(saturated vapor pressure)来进行薄膜沉积的。

  • A. 蒸镀
    B. 溅射
    C. 离子注入
    D. CVD

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  • 学习资料:
  • [单选题]降低靶的温度,有利于(beneficial to)非晶层的形成,所以临界注入量随之()。
  • A. 增大
    B. 减小
    C. 不变
    D. 变为0

  • [多选题]电荷积分仪的基本单元包括()。
  • A. I-V转换
    B. V-f转换
    C. 十进制计数电路
    D. 控制电路
    E. 红外探测器

  • [多选题]以()等两层材料所组合而成的导电层便称为Polycide。
  • A. 单晶硅
    B. 多晶硅
    C. 硅化金属
    D. 二氧化硅
    E. 氮化硅

  • [单选题]金相学的研磨之所以(the reason that)会在研磨面上造成如刮伤般的痕迹是由于在制程中()。
  • A. 氧化铬(chromium oxide)磨料溶水制成的研磨液
    B. 使用羊毛研磨垫
    C. 采用旋转研磨垫加压的方法
    D. 无法必免的机械损耗

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