（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。

【名词&注释】

热扩散(thermal diffusion)、离子注入(ion implantation)、电子束(electron beam)、分子式(molecular formula)、有利于(beneficial to)、离子束(ion beam)、高压氧化、薄膜淀积(thin film deposition)、湿氧氧化(wet oxidized)

[单选题]（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积^{(thin film deposition)}技术。

A. 蒸镀
B. 离子注入
C. 溅射
D. 沉积

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学习资料：

[多选题]（）的方法有利于减少热预算。

A. 高压氧化
B. 湿氧氧化^{(wet oxidized)}
C. 掺氯氧化
D. 氢氧合成氧化
E. 等离子增强氧化

[单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中，砷和锑的扩散温度为（）。

A. 1050～1200℃
B. 900～1050℃
C. 1100～1250℃
D. 1200～1350℃

[多选题]按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。

A. 光学曝光
B. 离子束曝光
C. 接近式曝光
D. 电子束曝光
E. 投影式曝光

[单选题]硅烷的分子式是（）。

A. SiF4
B. SiH4
C. CH4
D. SiC

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