正确答案: C

溅射

题目：（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。

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学习资料的答案和解析：

[多选题]（）的方法有利于减少热预算。

高压氧化

等离子增强氧化

[单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中，砷和锑的扩散温度为（）。

1050～1200℃

[多选题]按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。

光学曝光

离子束曝光

电子束曝光

[单选题]硅烷的分子式是（）。

SiH4