（）就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面，使其中离子注入

【名词&注释】

化学反应(chemical reaction)、半导体(semiconductor)、离子注入(ion implantation)、功率密度(power density)、氧化铜(copper oxide)、硝酸银(silver nitrate)、激光束(laser beam)、氯化铜(copper chloride)、激光退火(laser annealing)

[单选题]（）就是用功率密度很高的激光束^{(laser beam)}照射半导体表面，使其中离子注入层在极短的时间内达到高温，消除损伤。

A. 热退火
B. 激光退火^{(laser annealing)}
C. 连续激光退火^{(laser annealing)}
D. 脉冲激光退火^{(laser annealing)}

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学习资料：

[单选题]奉献社会的实质是（）。

A. 获得社会的好评
B. 尽社会义务
C. 不要回报的付出
D. 为人民服务

[单选题]刻蚀要求在整个晶圆上有一个均匀的刻蚀速率，（）是在晶圆上由测量刻蚀过程前后特定点的厚度，并计算这些点的刻蚀速率而得到的。

A. 选择性
B. 均匀性
C. 轮廓
D. 刻蚀图案

[单选题]（）主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的。

A. PVD
B. CVD
C. 溅射
D. 蒸发

[单选题]检验水中是否有盐酸，可用（）溶液滴入水中，如果出现白色沉淀，就表示水中有盐酸。

A. 氧化铜
B. 硝酸镁
C. 硝酸银
D. 氯化铜^{(copper chloride)}

[单选题]静电释放的英文简述为（）。

A. ESC
B. SED
C. ESD
D. SEM

[单选题]由静电释放产生的电流泄放最大电压可以达（）。

A. 几伏
B. 几十伏
C. 几百伏
D. 几万伏

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