正确答案: B

非结晶形态

题目：采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

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学习资料的答案和解析：

[多选题]解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

加强工艺操作

加强人体和环境卫生

使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备

采用HCl氧化工艺

硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹

[多选题]沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片（）的不希望有的物质。

成品率

电学性能

[单选题]危害半导体工艺的典型金属杂质是（）。

碱金属