正确答案:

题目：从电极的结构看，溅射的方法包括（）。

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学习资料的答案和解析：

[单选题]当注入剂量增加到某个值时，损伤量不再增加，趋于饱和。饱和正是对应连续（）的形成。

非晶层

[多选题]在半导体工艺中，与氮化硅比较，二氧化硅更适合应用在（）。

多层金属的介质层

多晶硅与金属之间的绝缘层

晶圆片上器件之间的隔离

[单选题]在IC芯片生长中浅沟槽隔离技术STI逐渐取代了局部氧化LOCOS所制成的（）而成为相邻电子元件的绝缘体

场氧化层