正确答案: ABCD

注入离子的质量 靶的种类 注入温度 注入速度

题目：下列哪些因素会影响临界注入量的大小：（）。

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[单选题]半导体硅常用的受主杂质是（）。

硼

[单选题]射程在垂直入射方向的平面内的投影长度称之为（）。

射程横向分量

[多选题]通常情况下，我们改变工艺条件使刻蚀进行中（）的刻蚀速率尽量低。

光刻胶

衬底

[单选题]在刻蚀（）过程中假如我们在CF5的等离子体内加入适量的氧气，能够提高刻蚀的速率。

二氧化硅