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一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。

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  • 【名词&注释】

    半导体硅(semiconductor silicon)、英文名称(english terms)

  • [多选题]一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。

  • A. 产生一个离子并导向靶
    B. 被轰击的原子向硅晶片运动
    C. 离子把靶上的原子轰出来
    D. 经过加速电场加速
    E. 原子在硅晶片表面凝结

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  • 学习资料:
  • [单选题]半导体硅常用的施主杂质是()。
  • A. 锡
    B. 硫
    C. 硼
    D. 磷

  • [单选题]化学气相沉积的英文名称的缩写为()。
  • A. LVD
    B. PED
    C. CVD
    D. PVD

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