光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。

【名词&注释】

真空镀膜机(vacuum membrane plate machine)、真空镀膜仪(vacuum coater)、主要工艺流程(main process flow)、衬底加热器

[单选题]光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。

A. 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶
B. 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶
C. 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶
D. 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶

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学习资料：

[单选题]（）由钟罩、蒸气源加热器、衬底加热器、活动挡板和底盘构成。

A. 真空镀膜机
B. 真空镀膜室
C. 真空镀膜器
D. 真空镀膜仪

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