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通常热扩散分为两个大步骤,其中第一个步骤是()。

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    热扩散(thermal diffusion)、电阻率(resistivity)、离子注入(ion implantation)、加速器(accelerator)、交直流(ac dc)、第一个(first)、表面浓度(surface concentration)、干氧氧化(dry oxidation)、湿氧氧化(wet oxidized)、离子分析器(ion analyzer)

  • [单选题]通常热扩散分为两个大步骤,其中第一个步骤是()。

  • A. 再分布
    B. 等表面浓度(surface concentration)扩散
    C. 预淀积
    D. 等总掺杂剂量扩散

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  • 学习资料:
  • [单选题]下列几种氧化方法相比,哪种方法制得的二氧化硅薄膜的电阻率会高些()。
  • A. 干氧氧化(dry oxidation)
    B. 湿氧氧化(wet oxidized)
    C. 水汽氧化
    D. 与氧化方法无关

  • [单选题]早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
  • A. 重离子加速器
    B. 热扩散炉
    C. 质子分析仪
    D. 轻离子分析器(ion analyzer)

  • [多选题]电气测量仪表若按照电流的种类来分,有()。
  • A. 低压仪表
    B. 高压仪表
    C. 直流仪表
    D. 交流仪表
    E. 交直流仪表

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