引出系统要求能引出分散性较好的强束流，还希望具有较（）的气阻

【名词&注释】

分散性(dispersion)、离子注入(ion implantation)

[单选题]引出系统要求能引出分散性较好的强束流，还希望具有较（）的气阻。

A. 无序
B. 稳定
C. 小
D. 大

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学习资料：

[单选题]对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。

A. 离子注入
B. 溅射
C. 淀积
D. 扩散

[单选题]He，OH，Na等元素在900℃下，在二氧化硅中的扩散率大于10－13cm2/s，这些元素称为（）。

A. 活跃杂质
B. 快速扩散杂质
C. 有害杂质
D. 扩散杂质

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