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在半导体制造中,熔断丝可以应用在()。

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    半导体(semiconductor)、点缺陷(point defect)、离子注入(ion implantation)、只读存储器(read only memory)、电容器(capacitor)、原子序数(atomic number)、射程分布(range distribution)、保护性元件

  • [多选题]在半导体制造中,熔断丝可以应用在()。

  • A. MOS栅极
    B. 保护性元件
    C. 电容器极板
    D. 制造只读存储器PROM
    E. 晶圆背面电镀

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  • 学习资料:
  • [单选题]point defect的意思是()。
  • A. 点缺陷
    B. 线缺陷
    C. 面缺陷
    D. 缺失的点

  • [单选题]下列哪些元素在硅中是快扩散元素:()。
  • A. Na
    B. B
    C. P
    D. As

  • [多选题]对于非晶靶,离子注入的射程分布(range distribution)取决于()。
  • A. 入射离子的能量
    B. 入射离子的质量
    C. 入射离子的原子序数(atomic number)
    D. 靶原子的质量、原子序数(atomic number)、原子密度
    E. 注入离子的总剂量

  • [多选题]在对层间绝缘膜进行CMP时,层间绝缘膜的表面会随下列那些因素产生变化()。
  • A. 电路图形结构的凹凸
    B. 尺寸大小
    C. 位置分布
    D. 高度
    E. 密集程度

  • [单选题]阳树脂用盐酸做再生液,浓度为()溶液可用原水配制。
  • A. 5%
    B. 10%
    C. 15%
    D. 20%

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