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在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。

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    光刻胶、加热法(heating method)、去离子水(deionized water)、化学试剂(chemical reagent)、红外线(infrared)、钠离子(sodium ion)、热空气(warm air)、主要因素(main factors)、玻璃器皿(glassware)

  • [单选题]在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。

  • A. 化学增强
    B. 化学减弱
    C. 厚度增加
    D. 厚度减少

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  • 学习资料:
  • [多选题]二氧化硅层中的钠离子可能来源于()。
  • A. 玻璃器皿(glassware)
    B. 高温器材
    C. 人体沾污
    D. 化学试剂
    E. 去离子水

  • [单选题]在VLSI工艺中,常用的前烘方法是()。
  • A. 热空气(warm air)对流法
    B. 真空热平板传导法
    C. 红外线辐射法
    D. 射频感应加热法

  • [单选题]决定吸附原子彼此间能否形成一个稳定的核团,以便于进行凝结的主要因素(main factors)主宰于所形成的核团是否()而定。
  • A. 动能最低
    B. 稳定
    C. 运动
    D. 静止

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