正确答案: A

正确

题目：CMP带来的一个显著的质量问题是表面微擦痕。小而难以发现的微擦痕导致淀积的金属中存在隐藏区，可能引起同一层金属之间的断路。

查看原题 查看所有试题

学习资料的答案和解析：

集成电路工艺原理题库题库下载排行
必典考试
集成电路工艺原理题库题库最新资料
推荐下载科目： 光电检测技术题库 智能仪器题库 信息化能力建设技术题库 电视机原理题库 信号检测题库 信息处理技术题库 可编程控制器题库 维规技术题库 电子制作题库 电气运行类技术题库
@2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号