正确答案: E

取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

题目：初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm．处理方法是（）

解析：后腭杆一般应离开黏膜0.5～1mm，该题目设计离开黏膜过高，因此应重新取印模重新制作腭杆，故此题选E。

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[单选题]制作固定桥金属桥架，下列哪项要求是错误的（）

前牙咬合接触最好在瓷面上

[单选题]患者男，62岁。缺失，可摘局部义齿初戴后1个月，咀嚼时常咬颊黏膜，下颌舌侧第一磨牙至牙后垫区压痛，来院复诊。

[单选题]前腭杆到龈缘的距离是（）

6mm

[单选题]金瓷冠切端牙体磨除厚度一般为（）

2.0mm