正确答案: A

正确

题目：结晶设备按改变溶液浓度的方法分，可分为移除部分溶剂的结晶器和不移除部分溶剂的结晶器。

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[单选题]在低温结晶时，晶体成长速率主要受（）控制。

B、表面反应过程