正确答案:

题目：冷隔是（）工艺中产生的缺陷。

查看原题 查看所有试题

学习资料的答案和解析：

[单选题]底片冲洗后放入鼓风干燥机干燥的温度限制一般为（）

C、50℃

[单选题]对于β射线，其剂量当量D中的线质系数Q值为（）

B、1

[单选题]显影后呈现在底片上亮的皱褶痕迹是由于（）造成的

C、曝光前胶片受重物压迫

[单选题]通常试件的缺陷可能在底片上显示为（）

C、以上都对

[单选题]使用铅或铅化锑高原子序数增感屏的目的是什么？（）

B、减少散射线、缩短曝光时间