正确答案: A

正确

题目：用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。

查看原题 查看所有试题

学习资料的答案和解析：

集成电路工艺原理题库题库下载排行
必典考试
集成电路工艺原理题库题库最新资料
推荐下载科目： 光电检测技术题库 微电子学题库 信号检测题库 雷达工程题库 传感器技术题库 物联网技术与运用题库 液压传动与控制题库 单片机原理及应用题库 电子制作题库 移动通信技术题库
@2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号