正确答案: A

正确

题目：干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的最主要方法，湿法腐蚀一般只是用在尺寸较大的情况下刻蚀器件，例如大于3微米。

查看原题 查看所有试题

学习资料的答案和解析：

集成电路工艺原理题库题库下载排行
必典考试
集成电路工艺原理题库题库最新资料
推荐下载科目： 半导体测试技术题库 微电子学题库 智能仪器题库 检测与转换技术题库 信息化能力建设技术题库 信息处理技术题库 雷达工程题库 可编程控制器题库 液压传动与控制题库 电子制作题库
@2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号