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半精密附着体制作过程中,附着体的阴性部件在铸造完毕后禁止使用

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    切除术(resection)、可摘局部义齿(removable partial denture)、半精密附着体、下颌切迹(mandibular notch)

  • [单选题]半精密附着体制作过程中,附着体的阴性部件在铸造完毕后禁止使用哪种技术处理铸件表面,去除表面的氧化层()

  • A. 玻璃刷处理
    B. 超声清洗
    C. 喷砂技术
    D. 橡皮轮抛光
    E. 布轮抛光

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  • 学习资料:
  • [单选题]桩冠长度要求为()
  • A. 根长的2/3~3/4
    B. 牙体长度的2/3~3/4
    C. 根长的1/2~3/4
    D. 牙体长度的1/2~3/4
    E. 越长越好

  • [单选题]可摘局部义齿基托伸展的范围,下列错误的是()
  • A. 应与天然牙轴面的倒凹区轻轻接触
    B. 上颌远中游离者应伸至翼下颌切迹(mandibular notch),远中颊角应覆盖上颌结节
    C. 下颌远中游离者应覆盖磨牙后垫1/3~1/2
    D. 缺牙区若骨质缺损应当扩大,若有骨突应适当缩小或作缓冲
    E. 缺牙多应适当大些,反之应小些

  • [单选题]下列哪项不作桩冠修复()
  • A. 牙冠大部分缺损者
    B. 缺损涉及龈下,牙根有足够长度,龈缘切除术能暴露缺损牙者
    C. 缺损大于根1/3者
    D. 唇向或舌向扭转牙者
    E. 牙冠变色影响美观者

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