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在下面的几种光纤传输损耗中,()是由于制造工艺不完善而引起的

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    瑞利散射(rayleigh scattering)、工程师(engineer)、液晶屏(lcd screen)、不完善(imperfect)、平均工作时间(mean work time)

  • [单选题]在下面的几种光纤传输损耗中,()是由于制造工艺不完善而引起的。

  • A. 瑞利散射
    B. 结构散射
    C. 本征吸收
    D. 原子缺陷吸收

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  • [单选题]系统或设备在发生失效前的平均工作时间(mean work time),称为()。
  • A. MTBF
    B. MTTR
    C. F
    D. MTTF

  • [单选题]用光功率计测试Sn点(OTU的输出点)光功率,液晶屏上显示“0.5mW”,工程师按下“dBm”键,显示结果是()。
  • A. 3.01dBm
    B. 负0.5dBm
    C. 0.5dBm
    D. 负3dBm

  • [单选题]下列保护方式中,WDM系统不能采用的保护倒换方式()
  • A. 两纤复用段保护。
    B. 光线路1+1和1:1保护;
    C. WDM环路中的SDH2纤或4纤自愈环保护;
    D. 光通道1+1和1:1保护;

  • [单选题]G.652光纤在1310nm处的模场直径是()。
  • A. 5.6μm~7.8μm
    B. 7.8μm~8.5μm
    C. 8.6μm~9.5μm
    D. 10μm

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