制作冠外附着体时，阳性附着体底部与牙槽嵴顶黏膜之间间隙应有（

【名词&注释】

过敏性(allergic)、自发性(spontaneous)、可摘局部义齿(removable partial denture)、早接触(premature contact)、共同就位道(common insert path)、牙槽嵴顶(alveolar ridge crest)

[单选题]制作冠外附着体时，阳性附着体底部与牙槽嵴顶^{(alveolar ridge crest)}黏膜之间间隙应有（）

A. 1mm
B. 1.5mm
C. 2mm
D. 2.5mm
E. 3mm

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学习资料：

[单选题]前腭杆的前缘应（）

A. 止于上前牙舌隆突上
B. 止于上前牙舌侧龈缘
C. 离开上前牙舌侧龈缘3mm
D. 离开上前牙舌侧龈缘6mm
E. 离开上前牙舌侧龈缘8mm

[单选题]可摘局部义齿基托与天然牙的接触关系，不正确的是（）

A. 基托对天然牙无压力
B. 应进入基牙邻面倒凹区，可增强固位
C. 近龈缘区基托要做缓冲
D. 前牙区基托边缘在舌隆突上
E. 舌腭侧基托边缘与天然牙轴面非倒凹区接触

[单选题]牙体缺损修复时，如未排除早接触，术后可出现（）

A. A.过敏性痛B.自发性痛C.咬合痛D.龈炎E.修复体松动

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