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金瓷基底冠进行氧化处理时,理想的氧化层应为多厚()

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    表面粗糙度、环境温度(ambient temperature)、促进剂(accelerator)、基础上(basis)、自凝树脂(self-solidification resin)、熟石膏(plaster of paris)

  • [单选题]金瓷基底冠进行氧化处理时,理想的氧化层应为多厚()

  • A. 0.05~0.1μm
    B. 0.1~0.2μm
    C. 0.2~2μm
    D. 2~2.5μm
    E. 2.5~3μm

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  • [单选题]自凝树脂(self-solidification resin)的促进剂含量一般为牙托水重量的()
  • A. 0.1%
    B. 0.5%~0.7%
    C. 1%
    D. 2%
    E. 5%

  • [单选题]熟石膏(plaster of paris)中,含半水石膏的量为()
  • A. 75%~85%
    B. 5%~8%
    C. 4%
    D. 10%
    E. 1%

  • [单选题]下列哪项与焊料的润湿性无关()
  • A. 被焊金属的成分及表面粗糙度
    B. 焊料
    C. 焊媒
    D. 温度
    E. 环境温度

  • [单选题]锡锑合金的熔点为多少度()
  • A. 1350~1410℃
    B. 1200~1350℃
    C. 850~930℃
    D. 1680℃
    E. 2500℃

  • [单选题]金瓷基底冠桥进行氧化,是在除气的基础上再加热。至预定终点温度时在非真空状态下应继续维持()
  • A. 1~2分钟
    B. 3~5分钟
    C. 5~10分钟
    D. 10~12分钟
    E. 12~15分钟

  • [单选题]加热固化型树脂的线收缩率为()
  • A. 2%~0.5%
    B. 43%
    C. 24%~1.26%
    D. 8%~2.10%
    E. 13%~2.24%

  • [单选题]易熔合金属于()
  • A. 高熔合金
    B. 中熔合金
    C. 低熔合金
    D. 锻制合金
    E. 焊合金

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