光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是

【名词&注释】

正性光刻胶(positive photoresist)、负性光刻胶(negative photoresist)

[填空题]光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。

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