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2022集成电路制造工艺员(三级)题库试题分析(05.19)

来源: 必典考网    发布:2022-05-19     [手机版]    
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必典考网发布2022集成电路制造工艺员(三级)题库试题分析(05.19),更多集成电路制造工艺员(三级)题库的答案解析请访问必典考网集成电路制造工艺员题库频道。

1. [多选题]()专指薄膜形成的过程中,并不消耗晶片或底材的材质。

A. 薄膜成长
B. 蒸发
C. 薄膜沉积
D. 溅射
E. 以上都正确


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