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上颌向近中颊侧倾斜的末端孤立的健康磨牙经常设计的卡环类型是(

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    可摘局部义齿(removable partial denture)、使用不当(improper use)、凹凸不平(unsmooth)

  • [单选题]上颌向近中颊侧倾斜的末端孤立的健康磨牙经常设计的卡环类型是()

  • A. 圈形卡环
    B. 双臂卡环
    C. 回力卡环
    D. 对半卡环
    E. 倒钩卡环

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  • 学习资料:
  • [单选题]若C78D78缺失,义齿为混合支持式,舌杆与黏膜的接触关系应为()
  • A. 轻轻接触
    B. 离开0.1~0.4mm
    C. 离开0.5~1.0mm
    D. 离开1.5~2.0mm
    E. 离开2.1~2.5mm

  • [单选题]基托抛光后,其表面凹凸不平的主要原因是()
  • A. 湿布轮使用不当
    B. 细打磨时留下的磨痕
    C. 粗打磨时留下的磨痕
    D. 抛光时转速过高
    E. 没有使用抛光膏

  • [单选题]可摘局部义齿基托蜡型与口内天然牙接触的舌侧边缘应在()
  • A. 牙冠最突点上
    B. 牙冠最突点下1.0mm
    C. 牙冠最突点下0.5mm
    D. 牙冠最突点上0.5mm
    E. 牙冠最突点上1.0mm

  • [单选题]上颌两侧磨牙全部缺失,设计支架式可摘义齿修复,为防止义齿下沉压迫黏膜,制作时要求()
  • A. 腭杆中部与模型应有0.8~1mm距离
    B. 腭杆中部与模型应有1.2~1.5mm距离
    C. 腭杆中部与模型应有0.1mm距离
    D. 腭杆中部与模型应有0.3~0.5mm距离
    E. 腭杆中部与模型应完全贴合

  • [单选题]单个前牙缺失,唇侧牙槽嵴丰满时,应考虑()
  • A. 基托蜡型适当变薄
    B. 基托蜡型适当加厚
    C. 基托蜡型适当加大
    D. 基托蜡型适当减小
    E. 不需要制作唇侧基托

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