半导体芯片制造中级工题库2022试题试卷(8K)

1. [单选题]光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）

A. 刻制图形
B. 绘制图形
C. 制作图形

2. [多选题]按蒸发源加热方法的不同，真空蒸发工艺可分为：（）蒸发、（）蒸发、离子束蒸发^{(ion beam evaporation)}等。

A. 电阻加热^{(resistance heating)}
B. 电子束
C. 蒸气原子

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