化学抛光溶液的主要成分是盐酸，但因其挥发性造成污染，近年来已

【名词&注释】

挥发性(volatile)、清洗液(cleaning fluid)、氯化物(chloride)、主要成分(main components)、光亮剂、化学抛光(chemical polishing)、近年来(recently)

[判断题]化学抛光^{(chemical polishing)}溶液的主要成分是盐酸，但因其挥发性造成污染，近年来^(recently)已进行了改进，减少了污染。

查看答案&解析 查看所有试题

学习资料：

[多选题]电镀铜时导致镀层有条纹的原因有可能是（）。

A. 光亮剂过量
B. 有机杂质过多
C. 镀前清洗不当，清洗液污染
D. 以上说法都不对

[多选题]下列为脉冲电镀特点的选项是（）。

A. 节水
B. 节电
C. 节料
D. 节时

[多选题]钢铁磷化工艺过程中，工件磷化膜耐蚀性差的原因是（）。

A. 酸度比不正确
B. 溶液温度不适宜
C. 磷化时间太短
D. 溶液中有氯化物

本文链接：https://www.51bdks.net/show/878w0r.html